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擺在面前的是一排排名為 “電感耦合等離子體發(fā)射光譜技術(shù)” 的蠟燭，在黑暗中靜靜地等待著被點(diǎn)燃的那一刻。

然而，在推開大門時(shí)，才深切體會(huì)到分量何其重。

單道掃描技術(shù)看似路徑成熟，真正著手了才發(fā)現(xiàn)處處是挑戰(zhàn)：波長(zhǎng)定位精度、步進(jìn)電機(jī)長(zhǎng)期穩(wěn)定性、等離子體的
穩(wěn)定性、弱信號(hào)檢出能力、......種種難題前，單靠“搭積木”式拼湊無法突破；守在既有技術(shù)框架內(nèi)反復(fù)優(yōu)化，也
難以實(shí)現(xiàn)質(zhì)變。唯有扎牢技術(shù)根基，鋼研納克才能真正地走上自主創(chuàng)新之路。

2009年，鋼研納克正式啟動(dòng)ICP-OES研制項(xiàng)目，這次的等離子體火焰由鋼研納克點(diǎn)燃。

面對(duì)波長(zhǎng)定位不準(zhǔn)、弱信號(hào)易受干擾、等離子體易熄火等難題，鋼研納克圍繞高分辨光學(xué)系統(tǒng)、PMT獨(dú)立可調(diào)負(fù)
高壓、恒溫控溫及高頻發(fā)生器穩(wěn)定性持續(xù)攻關(guān)。2010年，鋼研納克首臺(tái)ICP光譜儀——Plasma 1000研制成功，
其穩(wěn)定性優(yōu)于國(guó)家A級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，成為鋼研納克ICP自主研發(fā)的重要起點(diǎn)。

當(dāng)時(shí)，單道順序掃描仍是國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀的主流，全譜直讀的新苗已然發(fā)芽，鋼研納克乘勢(shì)而上，在Plasma 1000
研制出的同年，迅速切入全譜項(xiàng)目。

2011年，《ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用》獲國(guó)家重大儀器專項(xiàng)支持，鋼研納克ICP技術(shù)研發(fā)正式納入國(guó)家級(jí)高端
科學(xué)儀器攻關(guān)體系。這既是對(duì)前期技術(shù)積累的權(quán)威認(rèn)可，也推動(dòng)鋼研納克加快向全譜化、高端化、自主化方向邁進(jìn)。

2013年，鋼研納克先后突破了固態(tài)光源技術(shù)與二維分光技術(shù)。體積小、效率高、穩(wěn)定性強(qiáng)的固態(tài)射頻方案，取代了傳
統(tǒng)笨重的電子管路線；中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，讓原來容易重疊、容易受干擾的譜線有了更清楚的分離能力。
如今看來常規(guī)的性能，在當(dāng)時(shí)卻是日夜兼程、反復(fù)淬煉后的技術(shù)結(jié)晶。

進(jìn)度條拉到2014年，鋼研納克自主研發(fā)的第一臺(tái)ICP全譜光譜儀——Plasma 2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀推
向市場(chǎng)。


當(dāng)產(chǎn)品上市，考驗(yàn)才變得更加具體：實(shí)驗(yàn)室驗(yàn)證的性能參數(shù)，必須在更復(fù)雜的樣品體系、更連續(xù)的使用場(chǎng)景以及更嚴(yán)
苛
的用戶需求中經(jīng)受考驗(yàn)。鋼研納克始終認(rèn)為，用戶關(guān)注的不僅是儀器“能不能測(cè)”，更是“面對(duì)復(fù)雜基體時(shí)準(zhǔn)不準(zhǔn)”
“長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)不穩(wěn)”?；诖耍撗屑{克繼續(xù)攻堅(jiān)CCD采集技術(shù)與27.12MHz射頻源技術(shù)，紫外區(qū)響應(yīng)能力明顯提升，
采集效率和信噪水平也上升了一個(gè)臺(tái)階。至此，鋼研納克在ICP技術(shù)領(lǐng)域的積累，已經(jīng)不只是“國(guó)產(chǎn)做出來了”，而是
在核心技術(shù)環(huán)節(jié)扎根下來，把短板一一補(bǔ)齊。

鋼研納克沒有就此打住，而是將目光投向下一個(gè)技術(shù)高地。

2017年，雙向觀測(cè)ICP全譜項(xiàng)目啟動(dòng)。雙向觀測(cè)絕不只是增加一種觀測(cè)方式，而是讓ICP光譜儀在樣品種類更廣、
濃度范圍更寬的應(yīng)用場(chǎng)景中具備更加靈活的適配能力。它涉及軸向和徑向的切換、信號(hào)串?dāng)_、光路設(shè)計(jì)優(yōu)化、炬
管布局調(diào)整、算法匹配這些更復(fù)雜的問題。

2018年研制的Plasma 3000雙向觀測(cè)全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀，其價(jià)值遠(yuǎn)不止于“雙向觀測(cè)”四個(gè)字，它
真正解決的是應(yīng)用中的選擇題。無論是簡(jiǎn)單/復(fù)雜基體，低/高含量，應(yīng)用領(lǐng)域廣泛覆蓋環(huán)境、材料、食品、科研等。
冷錐消除尾焰干擾技術(shù)、垂直炬管設(shè)計(jì)、雙向觀測(cè)接口、CaF₂棱鏡、多窗口多方法軟件系統(tǒng)......這些技術(shù)要素組
合在一起，共同指向一個(gè)樸素而堅(jiān)定的目標(biāo):在ICP市場(chǎng)的廣闊藍(lán)海中站穩(wěn)腳跟，贏得用戶信賴。

鋼研納克Plasma 3000上市后，陸續(xù)斬獲自主創(chuàng)新金獎(jiǎng)、BCEIA金獎(jiǎng)、“國(guó)產(chǎn)好儀器”等多個(gè)權(quán)威榮譽(yù)，行業(yè)為之
側(cè)目，鋼研納克的技術(shù)實(shí)力再次得到有力印證。

2020年上市的鋼研納克Plasma 1500單道掃描電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀，走出了獨(dú)具特色的發(fā)展道
路。它將目光聚焦于高分辨單掃描方向，雙光柵搭配高靈敏PMT檢測(cè)器，結(jié)合1米焦距光學(xué)系統(tǒng)，將“高分
辨率”推向極致。

至此，鋼研納克建成了完整的ICP光譜技術(shù)體系，以高穩(wěn)定性、高精度、多場(chǎng)景適配三大核心優(yōu)勢(shì)，全面滿足
不同行業(yè)的多樣化需求。截至目前，鋼研納克ICP光譜儀累計(jì)獲得14項(xiàng)專利、4項(xiàng)軟件著作權(quán)，牽頭制定ISO
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)1項(xiàng)，參與國(guó)家/行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)共9項(xiàng)。鋼研納克堅(jiān)信，ICP光譜技術(shù)最終要回到行業(yè)現(xiàn)場(chǎng)、回到具體樣品、
回到方法標(biāo)準(zhǔn)中去。


回首來路，鋼研納克已從一簇小火苗起步，逐漸凝成熾熱的科技火炬，燎起的火光所及之處，照亮了實(shí)驗(yàn)
室的方寸、明亮了生產(chǎn)線的檢測(cè)現(xiàn)場(chǎng)，在國(guó)產(chǎn)高端科學(xué)儀器的征程上，綻放出熠熠光芒！